#基本调速型蠕动泵
WG600S
参考流量：0.001~32ml/min
雷弗WSP3000型微升蠕动泵主要用于各类水性溶液的高精度灌装
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蠕动泵在半导体行业的应用
发布时间：2021-12-29
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蠕动泵的应用十分广泛，如果你认为只有在和流体相关的行业使用蠕动泵产品那就大错特错了，下面小编为大家详细讲解泵在半导体行业的应用。
半导体制造要求始终控制工艺工具中的液体流动，苛刻的应用之一是化学机械平坦化（CMP）。当CMP工具不能将一致的浆料速率分配到抛光基材上时，它会对产量，化学品使用和材料完整性产生极大的负面影响。晶圆厚度的变化，缺陷密度的增加，工具停机时间和晶圆废料的增加只是流程控制不良可能导致的一些问题。
蠕动泵非常适合半导体行业的高纯度和腐蚀性化学环境，对于CMP，提供了在抛光过程中的使用点浆料流分配到晶片所需的线性和可重复性，低剪切力对CMP浆料温和，其变速操作允许在很宽的操作范围内控制流量，以保持过程的完整性。
浆料的性能可实现的晶圆平面度，微型蠕动泵通过控制浆料输送和分配，有助于实现这一目标。小流量蠕动泵的非侵入式设计提供了直的流动路径，没有死流区域，使浆料凝聚，硬化并污染过程。流速达到±0.5％。提供的稳定的流体输送不仅可确保浆料不断流向抛光垫，还可减少浆料，化学品和去离子水的浪费。
使用注意事项
1、使用压管的时候，注意不要把软管压的太死，以免造成软管的过度磨损。
2、泵管进口尽量短，蠕动泵管接头及直径不得小于被蠕动泵头卡住的管道直径
3、恒流泵在使用过程中，要及时产看管路的磨损情况，要及时更换，以免造成液体的泄露。
4、注意工作环境，是在常温还是有腐蚀的环境，泵壳的材质要及时变换。
